科學家打造干式剝離光刻技術，兼容納米至晶圓級多工藝場景，聚焦濕法光刻技術環境污染及工藝不兼容難題
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來源：DeepTech深科技 更新時間：2024-12-26 14:40:27 [我要投稿] |
| 近日，湖南大學段輝高教授團隊針對光刻工藝中濕法溶劑去膠帶來的環境和可持續發展問題，開發出一種全新的干式剝離光刻范式。圖 | 段輝高（來源：段輝高）其通過力學剝離替代傳統的濕法溶劑剝離工藝，實現了無需化學溶劑的圖形轉移，僅利用普通日用品膠帶即可完成去 ...[查看原文] |
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